भौतिक वाष्प निक्षेपण (भौतिक वाष्प निक्षेपण, PVD) तंत्रज्ञान म्हणजे व्हॅक्यूम परिस्थितीत भौतिक पद्धतींचा वापर करून भौतिक स्रोताच्या (घन किंवा द्रव) पृष्ठभागावर वायू अणू किंवा रेणूंमध्ये बाष्पीभवन करणे किंवा अंशतः आयनमध्ये आयनीकरण करणे आणि कमी-दाबाच्या वायू (किंवा प्लाझ्मा) मधून जाणे. प्रक्रिया, सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर विशेष कार्यासह पातळ फिल्म जमा करण्याची तंत्रज्ञान आणि भौतिक वाष्प निक्षेपण ही मुख्य पृष्ठभाग उपचार तंत्रज्ञानांपैकी एक आहे. PVD (भौतिक वाष्प निक्षेपण) कोटिंग तंत्रज्ञान प्रामुख्याने तीन श्रेणींमध्ये विभागले गेले आहे: व्हॅक्यूम बाष्पीभवन कोटिंग, व्हॅक्यूम स्पटरिंग कोटिंग आणि व्हॅक्यूम आयन कोटिंग.
आमची उत्पादने प्रामुख्याने थर्मल बाष्पीभवन आणि स्पटरिंग कोटिंगमध्ये वापरली जातात. बाष्प निक्षेपणात वापरल्या जाणाऱ्या उत्पादनांमध्ये टंगस्टन स्ट्रँड वायर, टंगस्टन बोट्स, मोलिब्डेनम बोट्स आणि टँटलम बोट्स यांचा समावेश आहे. इलेक्ट्रॉन बीम कोटिंगमध्ये वापरल्या जाणाऱ्या उत्पादनांमध्ये कॅथोड टंगस्टन वायर, कॉपर क्रूसिबल, टंगस्टन क्रूसिबल आणि मोलिब्डेनम प्रक्रिया भाग आहेत. स्पटरिंग कोटिंगमध्ये वापरल्या जाणाऱ्या उत्पादनांमध्ये टायटॅनियम टार्गेट्स, क्रोमियम टार्गेट्स आणि टायटॅनियम-अॅल्युमिनियम टार्गेट्स यांचा समावेश आहे.
