शुद्ध प्लॅनर टायटॅनियम लक्ष्य

पातळ फिल्म मटेरियल तयार करण्यासाठी स्पटरिंग हे मुख्य तंत्रांपैकी एक आहे.ते व्हॅक्यूममध्ये वेग वाढवण्यासाठी आणि एकत्रित करण्यासाठी आयन स्त्रोतांद्वारे व्युत्पन्न केलेल्या आयनचा वापर करते ज्यामुळे हाय-स्पीड एनर्जी आयन बीम तयार होतात, घन पृष्ठभागावर भडिमार होते आणि आयन आणि घन पृष्ठभागाच्या अणूंमध्ये गतीज उर्जेची देवाणघेवाण होते.घन पृष्ठभागावरील अणू घन सोडतात आणि थरच्या पृष्ठभागावर जमा होतात.बॉम्बर्ड सॉलिड हा स्पटरिंग पद्धतीने जमा केलेला पातळ फिल्म तयार करण्यासाठी कच्चा माल आहे, ज्याला स्पटरिंग लक्ष्य म्हणतात.