इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन पद्धत ही एक प्रकारची व्हॅक्यूम बाष्पीभवन कोटिंग आहे, जी व्हॅक्यूम परिस्थितीत बाष्पीभवन सामग्री थेट गरम करण्यासाठी, बाष्पीभवन सामग्रीचे बाष्पीभवन करण्यासाठी आणि सब्सट्रेटमध्ये वाहून नेण्यासाठी आणि पातळ फिल्म तयार करण्यासाठी सब्सट्रेटवर घनरूप करण्यासाठी इलेक्ट्रॉन बीमचा वापर करते.इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग यंत्रामध्ये, गरम केलेला पदार्थ वॉटर-कूल्ड क्रूसिबलमध्ये ठेवला जातो, ज्यामुळे बाष्पीभवन सामग्री आणि क्रूसिबल भिंत यांच्यातील प्रतिक्रिया टाळता येते आणि चित्रपटाच्या गुणवत्तेवर परिणाम होतो.विविध पदार्थांचे एकाचवेळी किंवा वेगळे बाष्पीभवन आणि निक्षेप साधण्यासाठी डिव्हाइसमध्ये एकाधिक क्रूसिबल्स ठेवल्या जाऊ शकतात.इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवनासह, कोणत्याही सामग्रीचे बाष्पीभवन केले जाऊ शकते.
इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन उच्च-वितरण बिंदू सामग्रीचे बाष्पीभवन करू शकते.सामान्य प्रतिरोधक हीटिंग बाष्पीभवनाच्या तुलनेत, त्यात उच्च थर्मल कार्यक्षमता, उच्च बीम वर्तमान घनता आणि जलद बाष्पीभवन गती आहे.प्रवाहकीय काच सारख्या विविध ऑप्टिकल सामग्रीचे फिल्म आणि फिल्म.
इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवनाचे वैशिष्ट्य म्हणजे ते लक्ष्य त्रि-आयामी संरचनेच्या दोन बाजूंना कव्हर करणार नाही किंवा क्वचितच, आणि सामान्यतः केवळ लक्ष्य पृष्ठभागावर ठेवते.इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन आणि स्पटरिंगमधील हा फरक आहे.
इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन सामान्यतः सेमीकंडक्टर संशोधन आणि उद्योग क्षेत्रात वापरले जाते.प्रवेगक इलेक्ट्रॉन ऊर्जेचा उपयोग भौतिक लक्ष्यावर प्रहार करण्यासाठी केला जातो, ज्यामुळे भौतिक लक्ष्य बाष्पीभवन होते आणि वाढते.अखेर लक्ष्यावर जमा केले.
पोस्ट वेळ: डिसेंबर-०२-२०२२